substratos para deposição de filmes nitretos iii-v
cristal
estrutura
p.f.
densidade
treliça mis-match para gan
expansão térmica
tecnologia de crescimento. & tamanho máximo
Tamanho padrão do substrato (mm)
o c
g / cm 3
(10 -6 / k)
sic
(6h como exemplo)
hexagonal
~ 2700
3,21
3,5% de atori.
10,3
cvd
Ø2 \"x 0,3, Ø3\" x0,3
a = 3,073 Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
20x20x0,3,15x15x0,3
c = 15,117 Å
\u0026 emsp;
Ø3 “
10x10x0,3,5x5x0,3
\u0026 emsp;
subl.
\u0026 emsp;
1 lado epi polido
al 2 o 3
hexagonal
2030
3,97
14% de atori.
7,5
cz
Ø50 x 0,33
a = 4,758 Å
\u0026 emsp;
Ø25 x 0,50
c = 12,99 Å
Ø2 ”
10x10x0,5
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
1 ou 2 lados epi polido
lialo 2
tetragonal
1900 ~
2,62
1,4% atori.
/
cz
10x10x0,5
a = 5,17 Å
Ø20 mm
1 ou 2 lados epi polido
c = 6,26 Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
ligao 2
orthor.
1600
4,18
0,2% de atori.
/
cz
10x10x0,5
a = 5,406 Å
Ø20 mm
1 ou 2 lados epi polido
b = 5.012Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
c = 6,379 Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
mgo
cúbico
2852
3,58
3% de atori.
12,8
fluxo
2 ”x2” x 0,5 mm, Ø2 ”x 0,5 mm
a = 4,216 Å
\u0026 emsp;
1 \"x1\" x 0,5 mm, Ø1 \"x 0,5 mm
\u0026 emsp;
Ø2 \"
10 x 10x0,5 mm
1 ou 2 lados epi polido
mgal 2 o 4
cúbico
2130
3,6
9% de atori.
7,45
cz
Ø2 \"x 0,5
a = 8,083 Å
Ø2 “
10x10x0,5
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
1 ou 2 lados epi polido
zno
hexag.
1975
5,605
2,2% atori.
2,9
hidrotérmico
20x20x0,5
a = 3,325 Å
20 mm
1 ou 2 lados epi polido
c = 5,213 Å
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
gan
hexagonal
\u0026 emsp;
6,15
\u0026 emsp;
5,59
\u0026 emsp;
10x10x0,475mm
\u0026 emsp;
\u0026 emsp;
5x5x0,475mm