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substratos para deposição de filmes nitretos iii-v

lista de bolacha

substratos para deposição de filmes nitretos iii-v

2018-02-27

substratos para deposição de filmes nitretos iii-v

cristal

estrutura

p.f.

densidade

treliça mis-match para gan

expansão térmica

tecnologia de crescimento. & tamanho máximo

Tamanho padrão do substrato (mm)

o c

g / cm 3

(10 -6 / k)

sic

(6h como exemplo)

hexagonal

~ 2700

3,21

3,5% de atori.

10,3

cvd

Ø2 \"x 0,3, Ø3\" x0,3

a = 3,073 Å

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

20x20x0,3,15x15x0,3

c = 15,117 Å

\u0026 emsp;

Ø3 “

10x10x0,3,5x5x0,3

\u0026 emsp;

subl.

\u0026 emsp;

1 lado epi polido

al 2 o 3

hexagonal

2030

3,97

14% de atori.

7,5

cz

Ø50 x 0,33

a = 4,758 Å

\u0026 emsp;

Ø25 x 0,50

c = 12,99 Å

Ø2 ”

10x10x0,5

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

1 ou 2 lados epi polido

lialo 2

tetragonal

1900 ~

2,62

1,4% atori.

/

cz

10x10x0,5

a = 5,17 Å

Ø20 mm

1 ou 2 lados epi polido

c = 6,26 Å

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

ligao 2

orthor.

1600

4,18

0,2% de atori.

/

cz

10x10x0,5

a = 5,406 Å

Ø20 mm

1 ou 2 lados epi polido

b = 5.012Å

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

c = 6,379 Å

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

mgo

cúbico

2852

3,58

3% de atori.

12,8

fluxo

2 ”x2” x 0,5 mm, Ø2 ”x 0,5 mm

a = 4,216 Å

\u0026 emsp;

1 \"x1\" x 0,5 mm, Ø1 \"x 0,5 mm

\u0026 emsp;

Ø2 \"

10 x 10x0,5 mm

1 ou 2 lados epi polido

mgal 2 o 4

cúbico

2130

3,6

9% de atori.

7,45

cz

Ø2 \"x 0,5

a = 8,083 Å

Ø2 “

10x10x0,5

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

1 ou 2 lados epi polido

zno

hexag.

1975

5,605

2,2% atori.

2,9

hidrotérmico

20x20x0,5

a = 3,325 Å

20 mm

1 ou 2 lados epi polido

c = 5,213 Å

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

gan

hexagonal

\u0026 emsp;

6,15

\u0026 emsp;

5,59

\u0026 emsp;

10x10x0,475mm

\u0026 emsp;

\u0026 emsp;

5x5x0,475mm









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