Um epirreator vertical de parede quente que permite simultaneamente alcançar uma alta taxa de crescimento e uniformidade de grandes áreas foi desenvolvido. Uma taxa de crescimento máxima de 250 µm / h é alcançada com uma morfologia espelhada a 1650 ° C. Sob uma modificação epi-reator configuração, uma uniformidade de espessura de 1,1% e uma uniformidade de dopagem de 6,7% para uma área de 65 mm de...
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