uma camada de cobertura de grafite foi avaliada para proteger a superfície de bolachas epitaxiais 4h-sic com 4 e 7 implantadas e implantadas seletivamente durante o recozimento pós-implantação. O fotorresistante az-5214e foi centrifugado e cozido em vácuo a temperaturas variando de 750 a 850 ° c para formar um revestimento contínuo em superfícies sic planar e mesa com características de até 2 μm d...
As matrizes de panquecas de bem-ordenados pb (zr0.2ti0.8) o3 nanodiscs e nanorings foram fabricados em toda a área (10 mm × 10 mm) do eletrodo inferior srruo3 em um substrato monocristalino srtio3 usando a litografia de interferência a laser (lil) processo combinado com deposição a laser pulsada. a forma e o tamanho das nanoestruturas foram controlados pela quantidade de pzt depositada através dos...
www.semiconductorwafers.net A tecnologia de colagem direta de wafer é capaz de integrar duas wafers suaves e, portanto, pode ser usada na fabricação de células solares de multijunções iii – v com incompatibilidade de treliça. a fim de interconectar-se monoliticamente entre as subcélulas gainp / gaas e ingaasp / ingaas, a heterojunção gaas / inp ligada deve ser uma junção ôhmica altamente condutora...
os recentes avanços no crescimento de filmes epitaxiais sic em si são analisados. Os métodos clássicos básicos usados atualmente para o crescimento de filmes sic são discutidos e suas vantagens e desvantagens são exploradas. a idéia básica e o fundo teórico para um novo método da síntese de filmes sic epitaxiais em si são dados. Será mostrado que o novo método é significativamente diferente das ...
ainda é um grande desafio para dispositivos baseados em semicondutores obterem um grande efeito de magnetorresistência (mr) sob um campo magnético baixo à temperatura ambiente. Neste trabalho, os efeitos de fotoinduzida em diferentes intensidades de iluminação à temperatura ambiente são investigados arsenieto de gálio semi-isolante ( si-gaas ag / si-gaas / ag baseado em o dispositivo é submetido à...
Os segmentos inas foram cultivados no topo das ilhas gaas, inicialmente criados por epitaxia gotosa em substrato de silício. exploramos sistematicamente o espaço de parâmetros de crescimento para a deposição de inas, identificando as condições para o crescimento seletivo Gaas e para crescimento puramente axial. os segmentos inas axiais foram formados com suas paredes laterais giradas por 30 $ ^ {{...
este artigo propõe uma nova tridimensional (3d) fotolitografia tecnologia para um processo de micropatterning de alta resolução em um substrato de fibra. uma breve revisão sobre a tecnologia de litografia da superfície não planar também é apresentada. A tecnologia proposta compreende principalmente a microfabricação do módulo de exposição 3D e a deposição de spray de filmes resistentes finos na fi...
Os monocristais GaSb dopados com te são estudados medindo o efeito Hall, os espectros de transmissão infravermelha (IV) e de fotoluminescência (PL). Verifica-se que o GaSb n-type com transmitância IR pode ser obtido em até 60% pelo controle crítico da concentração Te-doping e compensação elétrica. A concentração dos defeitos associados ao receptor nativo é aparentemente baixa no GaSb em comparação...
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