uma camada de cobertura de grafite foi avaliada para proteger a superfície de bolachas epitaxiais 4h-sic com 4 e 7 implantadas e implantadas seletivamente durante o recozimento pós-implantação. O fotorresistante az-5214e foi centrifugado e cozido em vácuo a temperaturas variando de 750 a 850 ° c para formar um revestimento contínuo em superfícies sic planar e mesa com características de até 2 μm d...
As matrizes de panquecas de bem-ordenados pb (zr0.2ti0.8) o3 nanodiscs e nanorings foram fabricados em toda a área (10 mm × 10 mm) do eletrodo inferior srruo3 em um substrato monocristalino srtio3 usando a litografia de interferência a laser (lil) processo combinado com deposição a laser pulsada. a forma e o tamanho das nanoestruturas foram controlados pela quantidade de pzt depositada através dos...
os recentes avanços no crescimento de filmes epitaxiais sic em si são analisados. Os métodos clássicos básicos usados atualmente para o crescimento de filmes sic são discutidos e suas vantagens e desvantagens são exploradas. a idéia básica e o fundo teórico para um novo método da síntese de filmes sic epitaxiais em si são dados. Será mostrado que o novo método é significativamente diferente das ...
ainda é um grande desafio para dispositivos baseados em semicondutores obterem um grande efeito de magnetorresistência (mr) sob um campo magnético baixo à temperatura ambiente. Neste trabalho, os efeitos de fotoinduzida em diferentes intensidades de iluminação à temperatura ambiente são investigados arsenieto de gálio semi-isolante ( si-gaas ag / si-gaas / ag baseado em o dispositivo é submetido à...
Para realizar o carboneto de silício de alto desempenho ( SiC ) dispositivos de potência, contatos ôhmicos de baixa resistência ao SiC tipo-p devem ser desenvolvidos. Para reduzir a resistência do contato ôhmico, é necessário reduzir a altura da barreira nas interfaces metal / SiC ou aumentar a concentração de dopagem nos substratos de SiC. Como a redução da altura da barreira é extremamente difíc...
o desenvolvimento do mercado de semicondutores de energia SiC e GaN O estado atual da tecnologia e do mercado de SiC, e os tendência de desenvolvimento nos próximos anos. O mercado de dispositivos de SiC é promissor. Vendas de barreira Schottky diodos amadureceram e os envios MOSFET deverão aumentar significativamente nos próximos três anos. De acordo com analistas da Yole Développement, o SiC é m...
Neste trabalho, usando um simulador de dispositivo eletro-térmico tridimensional totalmente acoplado, estudamos o mecanismo de degradação de eficiência em alta operação atual em planar G uma Diodos emissores de luz baseados em N (CONDUZIU). Em particular, foi demonstrada a melhoria da degradação da eficiência utilizando substratos GaN condutores mais espessos. Primeiro, verifica-se que o aquecimen...
Experimentos ortogonais de crescimento de filmes GaSb em Substrato de GaAs foram projetados e executados usando um sistema de baixa deposição de vapor químico orgânico de metal (LP-MOCVD). As cristalinidades e microestruturas dos filmes produzidos foram comparativamente analisadas para atingir os parâmetros ótimos de crescimento. Foi demonstrado que o filme fino GaSb otimizado tem uma largura tota...
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