a densidade e intensidade de dispersão de luz dos precipitados de oxigênio silício cz os cristais são medidos por tomografia por dispersão de luz. os dados numéricos esclarecidos através das medições são discutidos em relação à quantidade de oxigênio precipitado. os resultados obtidos aqui correspondem bem à análise teórica de que os precipitados de oxigênio causam a dispersão da luz. as informaçõ...
Para realizar o carboneto de silício de alto desempenho ( SiC ) dispositivos de potência, contatos ôhmicos de baixa resistência ao SiC tipo-p devem ser desenvolvidos. Para reduzir a resistência do contato ôhmico, é necessário reduzir a altura da barreira nas interfaces metal / SiC ou aumentar a concentração de dopagem nos substratos de SiC. Como a redução da altura da barreira é extremamente difíc...
o desenvolvimento do mercado de semicondutores de energia SiC e GaN O estado atual da tecnologia e do mercado de SiC, e os tendência de desenvolvimento nos próximos anos. O mercado de dispositivos de SiC é promissor. Vendas de barreira Schottky diodos amadureceram e os envios MOSFET deverão aumentar significativamente nos próximos três anos. De acordo com analistas da Yole Développement, o SiC é m...
Neste trabalho, usando um simulador de dispositivo eletro-térmico tridimensional totalmente acoplado, estudamos o mecanismo de degradação de eficiência em alta operação atual em planar G uma Diodos emissores de luz baseados em N (CONDUZIU). Em particular, foi demonstrada a melhoria da degradação da eficiência utilizando substratos GaN condutores mais espessos. Primeiro, verifica-se que o aquecimen...
Experimentos ortogonais de crescimento de filmes GaSb em Substrato de GaAs foram projetados e executados usando um sistema de baixa deposição de vapor químico orgânico de metal (LP-MOCVD). As cristalinidades e microestruturas dos filmes produzidos foram comparativamente analisadas para atingir os parâmetros ótimos de crescimento. Foi demonstrado que o filme fino GaSb otimizado tem uma largura tota...
Para materiais homogêneos, o método de imersão ultrassônica, associado a um processo de otimização numérica baseado principalmente no algoritmo de Newton, permite a determinação de constantes elásticas para vários materiais compósitos sintéticos e naturais. No entanto, uma limitação principal do procedimento de otimização existente ocorre quando o material considerado está no limite da hipótese ho...
Um epirreator vertical de parede quente que permite simultaneamente alcançar uma alta taxa de crescimento e uniformidade de grandes áreas foi desenvolvido. Uma taxa de crescimento máxima de 250 µm / h é alcançada com uma morfologia espelhada a 1650 ° C. Sob uma modificação epi-reator configuração, uma uniformidade de espessura de 1,1% e uma uniformidade de dopagem de 6,7% para uma área de 65 mm de...
Os recentes avanços no crescimento de filmes epitaxiais de SiC em Si são vistos. Os métodos clássicos básicos atualmente usados para o crescimento de filmes de SiC são discutidos e suas vantagens e desvantagens são exploradas. A ideia básica e o embasamento teórico para um novo método de síntese de filmes epitaxiais de SiCem Si são dadas. Será mostrado que o novo método é significativamente dife...